【光刻技術的原理是什么？】
光刻工藝是利用類似照相制版的原理，在半導體晶片表面的掩膜層上面刻蝕精細圖形的表面加工技術 。也就是使用可見光和紫外光線把電路圖案投影“印刷”到覆有感光材料的硅晶片表面，再經過蝕刻工藝去除無用部分，所剩就是電路本身了 。光刻工藝的流程中有制版、硅片氧化、涂膠、曝光、顯影、腐蝕、去膠等 。光刻是制作半導體器件和集成電路的關鍵工藝 。自20世紀60年代以來，都是用帶有圖形的掩膜覆蓋在被加工的半導體芯片表面，制作出半導體器件的不同工作區 。隨著集成電路所包含的器件越來越多，要求單個器件尺寸及其間隔越來越小，所以常以光刻所能分辨的最小線條寬度來標志集成電路的工藝水平 。國際上較先進的集成電路生產線是1微米線，即光刻的分辨線寬為1微米 。日本兩家公司成功地應用加速器所產生的同步輻射X射線進行投影式光刻，制成了線寬為0.1微米的微細布線，使光刻技術達到新的水平 。
猜你喜歡
- 理科女生前景最好的十大專業 理科女生前景最好的十大專業是哪些
- 人死后是怎樣火化的 殯儀館火化流程是怎樣的過程
- 鼉龍怎么讀 鼉龍的讀音
- 中國的五大文明城市介紹 全國文明城市有哪些地方
- 適合女生大學學的專業 適合女生大學比較好的專業
- 兩個地方的人口數量如何 新加坡和香港哪個面積大一點
- 節怎么讀 節字的介紹
- 女生高考最好就業的十大專業 女生高考最好就業的十大專業是哪些
- 有沒有適合女孩子學的專業 有啥適合女孩子學的專業
- 夒怎么讀 夒的讀音